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联系人:张立宪 (先生)

公司地址:北京市海淀区知春路128号1号楼3层602

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1200°C真空气氛坩埚炉

适用于各大专校校、科研院所、工矿企业主要用于煅烧真空或惰性气体中的高纯度化合物,退火或扩散半导体晶片,也可以用于烘烧或烧结陶瓷材料等。 ...

价格:电议
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1200℃单温区真空管式炉

HKRG1200-Ⅰ单温区开启式真空管式炉采用双层风冷结构,炉体表面温度≤50℃, 炉膛采用高纯度氧化铝微晶纤维高温真空吸附成型。采用加热电阻丝加 热,是专为高等院校﹑科研院所的实验室... ...

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1200℃多温区高温管式炉

该系列电炉系周期作业,供企业实验室、大专院校、科研院所等单位选用。设备为用户提供具有真空、可控气氛及高温的试验环境,应用在半导体,电子陶瓷产品、纳米技术、碳纤维、高温热解低温沉淀... ...

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1200℃高温升降炉

1. 根据炉膛尺寸,采用三面加热,炉膛内温度均匀。 2. 炉膛采用轻质陶瓷纤维成型,与传统马弗炉相比重量减轻了 2/3 ,升温速度了一倍,大大节省了能源,其寿命了 4 倍; 3. 采... ...

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1200℃立式真空管式炉

产品简介: 1200℃立式真空管式炉(RSQG1100-S)外型美观大方,结构为保温层两半开启式,集控制系统与炉膛为一体,可在垂直和水平等多个工位下工作。它是专为高等院校﹑科研院所的实验室及工... ...

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1100℃多工位真空气氛管式炉

产品型号: RSQG1100-S 产品简介: RSQG1100-S多工位管式高温炉以电阻丝为发热元件,额定温度1100℃,采用K型热电偶测温和518P温控仪30段可编程智能控温,具有较高的控温(±1℃),可... ...

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1800℃三温区真空管式炉

RSQG 1800单温区封闭式真空管式炉采用双层风冷结构,炉体表面温度≤50℃, 炉膛采用高纯度氧化铝微晶纤维高温真空吸附成型。采用加热电阻丝加 热,是专为高等院校﹑科研院所的实验室及... ...

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1600℃单温区真空管式炉

RSQG 1600单温区封闭式真空管式炉采用双层风冷结构,炉体表面温度≤50℃, 炉膛采用高纯度氧化铝微晶纤维高温真空吸附成型。采用加热电阻丝加 热,是专为高等院校﹑科研院所的实验室及... ...

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1400℃单温区真空管式炉

SQG -1400单温区封闭式真空管式炉采用双层风冷结构,炉体表面温度≤50℃, 炉膛采用高纯度氧化铝微晶纤维高温真空吸附成型。采用加热电阻丝加 热,是专为高等院校﹑科研院所的实验室及... ...

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1800℃高温升降炉

升降式电阻炉整体采用角钢及钢板密封焊接而成的双层壳体结构,连接件采用的数控机床加工,表面采用双色环氧粉末静电喷涂。外观,大气。炉膛材料采用优质的多晶莫来石陶瓷纤... ...

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1600℃高温升降炉

1.升降式电阻炉整体采用角钢及钢板密封焊接而成的双层壳体结构,连接件采用的数控机床加工,表面采用双色环氧粉末静电喷涂。外观,大气。炉膛材料采用优质的多晶莫来石陶瓷... ...

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1400℃高温升降炉

1. 根据炉膛尺寸,采用三面加热,炉膛内温度均匀。 2. 炉膛采用轻质陶瓷纤维成型,与传统马弗炉相比重量减轻了 2/3 ,升温速度了一倍,大大节省了能源,其寿命了 4 倍; 3. 采... ...

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1700℃气相沉积炉

HKCVD-1700系统由高温管式炉,高真空扩散泵/分子泵系统,多通道高数字质量流量控制系统,自动压强控制系统等组成。可实现本底真空达0.001—0.0001Pa混合气体化学气相沉积和扩散试验。 ...

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1200℃气相沉积炉

HKCVD-1200由开启式单(双)温区管式炉、高真空扩散泵系统、压强控制仪及多通道高数字质量流量控制系统组成。可实现真空达0.001Pa混合气体化学气相沉积和扩散试验。 ...

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1000℃外热式真空炉

本炉型适用于实验室作各种材料的真空退火、钎焊和烧结等用途,也可以供小规模的生产之用。除了具备一般外热式真空炉的特点之外还有以下的设计,大大炉子的使用性能和操作的灵 ...

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750℃外热式真空炉

本炉型适用于实验室作各种材料的真空退火、钎焊和烧结等用途,也可以供小规模的生产之用。除了具备一般外热式真空炉的特点之外还有以下的设计,大大炉子的使用性能和操作的灵 ...

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